セラミック・レーザー切断技術

セラミックレーザー切断は、高エネルギー密度のレーザー光線をセラミック材料に照射し、セラミック材料を短時間で溶融、気化、蒸発させ、セラミック材料の切断を実現します。切断品質が良い、切断効率が高い、熱影響部が小さい、複雑な図形や曲線の加工に適している、大量生産が可能などの利点があります。

セラミックレーザー切断原理

セラミックレーザー切断の原理は、レーザービームとセラミック材料の相互作用を利用することです。レーザービームがセラミック材料の表面に照射されると、高温・高圧の溶融ゾーンがセラミック材料の表面に形成されます。レーザービームのエネルギー密度が高いため、溶融ゾーンは短時間で急速に蒸発し、セラミック材料の切断が実現します。

セラミックレーザー切断のカスタマイズ

セラミックレーザー切断は、セラミック基板上の複雑なパターン、貫通する溝や穴、あらかじめ加工された分割線などを加工することができます。さらに、お客様の技術的要求と図面に従って、カスタマイズされた加工サービスを提供することができます。

窒化アルミニウム基板のレーザー切断

窒化アルミニウム基板レーザー切断

アルミナ基板レーザー切断

アルミナ基板レーザー切断

アルミナ基板レーザー切断溝

アルミナ基板レーザー切断溝

アルミナ基板-レーザー加工 3

レーザー切断絶縁ガスケット

酸化ベリリウム(BeO)セラミック基板

酸化ベリリウムレーザー切断

窒化アルミニウムセラミック絶縁ガスケット

AlN絶縁ガスケット

セラミック・レーザー加工能力

  1. 最大加工範囲:250×250mm
  2. 最大加工厚さ:2.0(AL2O3)、3.0(ALN)、1.0(ZrO2)、
  3. 最小口径0.02mm
  4. 穴と端の間の最低の間隔: 0.2mm

レーザー切断公差リファレンスリスト

下記の表は参考用です。通常、お客様から提供された図面に従って製品を作成します。

アイテム セラミック・レーザー切断
一般 精密
長さ公差 T≤0.645 +0.20/-0.05 +0.15/-0.05
0.635<T≤1.0 +0.25/-0.10 +0.20/-0.05
1.0<T≤1.2 +0.30/-0.10 +0.25/-0.10
厚さ公差 ±10% 最小値:±0.05 ±7% 最小値:±0.05
スナップラインまたはホール間の距離公差 ±0.05 ±0.05
穴径公差 T≤0.645 ±0.075 ±0.05
T>0.635 ±0.1 ±0.075
エッジからスナップラインまたはホールまでの距離の公差 T≤0.645 +0.15/-0.05 +0.15/-0.05
0.635<T≤1.0 +0.20/-0.05 +0.20/-0.05
1.0<T≤1.2 +0.25/-0.10 +0.25/-0.10
キャンバー 0.3% 最小値:0.05 0.25% 最小値:0.05
平行性/垂直性 0.3%最長エッジサイズ 0.2%最長エッジサイズ

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