セラミック・レーザー切断技術
セラミックレーザー切断は、高エネルギー密度のレーザー光線をセラミック材料に照射し、セラミック材料を短時間で溶融、気化、蒸発させ、セラミック材料の切断を実現します。切断品質が良い、切断効率が高い、熱影響部が小さい、複雑な図形や曲線の加工に適している、大量生産が可能などの利点があります。
セラミックレーザー切断原理
セラミックレーザー切断の原理は、レーザービームとセラミック材料の相互作用を利用することです。レーザービームがセラミック材料の表面に照射されると、高温・高圧の溶融ゾーンがセラミック材料の表面に形成されます。レーザービームのエネルギー密度が高いため、溶融ゾーンは短時間で急速に蒸発し、セラミック材料の切断が実現します。
セラミックレーザー切断のカスタマイズ
セラミックレーザー切断は、セラミック基板上の複雑なパターン、貫通する溝や穴、あらかじめ加工された分割線などを加工することができます。さらに、お客様の技術的要求と図面に従って、カスタマイズされた加工サービスを提供することができます。
窒化アルミニウム基板レーザー切断
アルミナ基板レーザー切断
アルミナ基板レーザー切断溝
レーザー切断絶縁ガスケット
酸化ベリリウムレーザー切断
AlN絶縁ガスケット
セラミック・レーザー加工能力
- 最大加工範囲:250×250mm
- 最大加工厚さ:2.0(AL2O3)、3.0(ALN)、1.0(ZrO2)、
- 最小口径0.02mm
- 穴と端の間の最低の間隔: 0.2mm
レーザー切断公差リファレンスリスト
下記の表は参考用です。通常、お客様から提供された図面に従って製品を作成します。
アイテム | セラミック・レーザー切断 | ||
一般 | 精密 | ||
長さ公差 | T≤0.645 | +0.20/-0.05 | +0.15/-0.05 |
0.635<T≤1.0 | +0.25/-0.10 | +0.20/-0.05 | |
1.0<T≤1.2 | +0.30/-0.10 | +0.25/-0.10 | |
厚さ公差 | ±10% 最小値:±0.05 | ±7% 最小値:±0.05 | |
スナップラインまたはホール間の距離公差 | ±0.05 | ±0.05 | |
穴径公差 | T≤0.645 | ±0.075 | ±0.05 |
T>0.635 | ±0.1 | ±0.075 | |
エッジからスナップラインまたはホールまでの距離の公差 | T≤0.645 | +0.15/-0.05 | +0.15/-0.05 |
0.635<T≤1.0 | +0.20/-0.05 | +0.20/-0.05 | |
1.0<T≤1.2 | +0.25/-0.10 | +0.25/-0.10 | |
キャンバー | 0.3% 最小値:0.05 | 0.25% 最小値:0.05 | |
平行性/垂直性 | 0.3%最長エッジサイズ | 0.2%最長エッジサイズ |