질화알루미늄(AlN) 세라믹 기판은 반도체, 광전자, 항공우주 및 기타 분야에서 광범위하게 응용되는 우수한 성능의 기술 세라믹 소재입니다.
레이저 절단은 AlN 세라믹 기판 가공에서 중요한 공정 중 하나로, 빠른 절단 속도와 고정밀도, 무공해라는 장점이 있습니다.

• 높은 열전도율: AlN 세라믹 기판의 열전도율은 알루미나 세라믹 기판의 5~8배에 달하는 170W/m-K에 달하며 방열 성능이 우수합니다.
• 높은 전기 절연성: AlN 세라믹 기판의 전기 절연 강도는 1000V/mm에 달할 수 있으며, 전기 절연 성능이 우수합니다.
• 높은 강도: AlN 세라믹 기판의 굽힘 강도는 380MPa에 달할 수 있으며 기계적 특성이 우수합니다.
• 높은 내마모성: AlN 세라믹 기판은 내마모성이 우수하고 고강도 마찰을 견딜 수 있습니다.
• 높은 내식성: AlN 세라믹 기판은 내식성이 우수하고 다양한 산성 및 알칼리성 용액의 침식에 견딜 수 있습니다.

• 빠른 커팅 속도: 레이저 커팅은 정확한 그래픽과 크기를 빠르게 잘라낼 수 있는 효율적인 가공 기술입니다.
• 높은 정밀도: 레이저 커팅은 가공 정밀도가 높아 복잡한 그래픽과 치수의 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
• 버가 없습니다: 레이저 커팅은 버가 없는 커팅을 구현하고 커팅 표면의 매끄러움을 보장합니다.
• 무공해: 레이저 커팅은 오염을 일으키지 않는 깨끗한 공정입니다.

• 전력 전자 분야에서: AlN 세라믹 기판은 전력 전자 장치에 이상적인 기판으로, 전력 모듈, IGBT, MOSFET 및 기타 장치의 패키징에 사용할 수 있습니다.
• 광전자 분야: AlN 세라믹 기판은 광학 부품에 이상적인 기판으로 레이저 다이오드, LED, 광전지 및 기타 장치에 사용할 수 있습니다.
• 반도체 분야: AlN 세라믹 기판은 반도체 장치에 이상적인 기판으로 칩 패키징, 웨이퍼 절단 등에 사용할 수 있습니다.

그레이트 세라믹 는 수년간 정밀 기술 세라믹 작업에 종사해 왔으며 질화알루미늄(AlN) 세라믹의 밀링, 연삭 및 연마에 풍부한 경험을 보유하고 있습니다. 우리는 할 수 있습니다:

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그레이트 세라믹은 정밀 고급 세라믹 제품의 크기와 구조에 따라 모든 공차를 개선할 수 있습니다. 그레이트 세라믹은 고객 사양을 충족하거나 초과하는 최고 품질의 정밀 세라믹 부품만을 생산하기 위해 최선을 다하고 있습니다.

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그레이트 세라믹의 질화알루미늄 세라믹 기판은 보관 및 운송 중 손상을 최소화하고 제품의 품질을 원래 상태로 유지하기 위해 세심하게 가공되었습니다.