Das keramische Substrat Aluminiumnitrid (AlN) ist ein technisches keramisches Material mit hervorragender Leistung, das in der Halbleiterindustrie, der Optoelektronik, der Luft- und Raumfahrt und anderen Bereichen eine breite Palette von Anwendungen findet.
Das Laserschneiden ist eines der wichtigsten Verfahren bei der Bearbeitung von AlN-Keramiksubstraten, das die Vorteile einer hohen Schnittgeschwindigkeit, einer hohen Präzision und keiner Umweltverschmutzung bietet.

• Hohe Wärmeleitfähigkeit: Die Wärmeleitfähigkeit von AlN-Keramiksubstrat kann 170 W/m-K erreichen, was dem 5-8-fachen von Aluminiumoxid-Keramiksubstrat entspricht und eine gute Wärmeableitungsleistung aufweist.
• Hohe elektrische Isolierung: Die elektrische Isolationsfestigkeit des keramischen AlN-Substrats kann bis zu 1000 V/mm erreichen, und es hat eine gute elektrische Isolationsleistung.
• Hohe Festigkeit: Die Biegefestigkeit des keramischen AlN-Substrats kann bis zu 380 MPa erreichen, und es hat gute mechanische Eigenschaften.
• Hohe Verschleißfestigkeit: Das keramische AlN-Substrat weist eine gute Verschleißfestigkeit auf und hält auch intensiver Reibung stand.
• Hohe Korrosionsbeständigkeit: Das keramische AlN-Substrat hat eine gute Korrosionsbeständigkeit und kann der Erosion durch verschiedene Säuren und Laugen widerstehen.

• Schnelle Schnittgeschwindigkeit: Das Laserschneiden ist eine effiziente Bearbeitungstechnologie, mit der präzise Grafiken und Größen schnell ausgeschnitten werden können.
• Hohe Präzision: Das Laserschneiden verfügt über eine hohe Bearbeitungspräzision, die den Anforderungen komplexer Grafiken und Dimensionen gerecht werden kann.
• Gratfrei: Beim Laserschneiden wird ein gratfreier Schnitt erzielt und die Glätte der Schnittfläche gewährleistet.
• Schadstofffrei: Laserschneiden ist ein sauberes Verfahren, das keine Umweltverschmutzung verursacht.

• Im Bereich der Leistungselektronik: AlN-Keramiksubstrate sind ideale Substrate für leistungselektronische Geräte und können für das Gehäuse von Leistungsmodulen, IGBTs, MOSFETs und anderen Geräten verwendet werden.
• Bereich Optoelektronik: AlN-Keramiksubstrat ist ein ideales Substrat für optische Komponenten und kann für Laserdioden, LEDs, photovoltaische Zellen und andere Geräte verwendet werden.
• Bereich Halbleiter: AlN-Keramiksubstrat ist ein ideales Substrat für Halbleiterbauelemente und kann für die Chipverpackung, das Schneiden von Wafern usw. verwendet werden.

Große Keramik ist seit vielen Jahren im Bereich der technischen Präzisionskeramik tätig und verfügt über reiche Erfahrung im Fräsen, Schleifen und Polieren von Aluminiumnitrid (AlN)-Keramik. Wir können:

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Das Aluminiumnitrid-Keramiksubstrat von Great Ceramic wurde sorgfältig verarbeitet, um Schäden während der Lagerung und des Transports zu minimieren und die Qualität unserer Produkte im Originalzustand zu erhalten.